파일:Attachment/지향성 제플입자/ed.jpg
시작형 지향성 제플입자 살포기.
은하영웅전설의 은하제국군이 개발한 신기술. 개발자는 병맛스러움으로 유명한 안톤 힐머 폰 샤프트 기술대장으로 샤프트가 유일하게 자신의 직위에 걸맞는 과학적 업적을 이룩한 것으로 손꼽힌다.
강력한 폭발력을 가진 제플입자를 제어 할 수 있게 되어서 아군의 피해를 줄이고 적군에게 더 많은 피해를 줄 수 있다. 원리는 제플입자와 함께 제플입자를 제어하는 나노머신을 사출해서 제플입자가 분사되는 방향을 조작하는 것. 이 장치가 개발되기 전까지의 제플입자 발생장치는 그야말로 무작위로 입자를 뿌리는 살포기라 자칫하면 자살에 팀킬까지 부를 수 있는 물건이었다.
대신 이 장치는 에너지 소비가 막대하기 때문에 전함이나 순양함에 제어 장치를 장착할 수 없었고, 따라서 제플입자의 분사를 목적으로 하는 공작함이 따로 건조되었다. 이 때문에 당연하게도 개인이 휴대하거나 차량에 탑재하는 방식의 지향성 제플입자 발생장치는 존재하지 않는다.
실전에서 사용된 것은 제국력 483년에 라인하르트 폰 뮈젤에게 주어진 비밀임무에서 였지만 이는 말 그대로 비밀임무이기에 공식 기록에는 남지 않았고, 제국력 487년에 있었던 암릿처 성계 회전에서 지크프리트 키르히아이스가 자유행성동맹측이 뿌려둔 우주기뢰를 없애기 위해 사용한 것이 최초로 기록된다. 다만 OVA 기준으로는 카스트로프의 난 당시 아르테미스의 목걸이 파괴용으로 사용한게 최초.
특히 키르히아이스는 라인하르트와의 비밀임무인 지향성 제플입자 발생기 탈환 작전 중에 실전에서 최초로 지향성 제플입자 발생기를 조작했다. 그리고 제플입자의 위력이나 활용도가 인상깊었는지 그 뒤로도 자신의 작전에 자주 사용했다.